02. 산화 및 확산 공정 주요 모듈

산화 및 확산 공정 주요 모듈

 

산화공정의 종류

사용하는 산화제에 따라 나눌 수 있음

 

건식산화

산소를 반응로 내부로 주입하여 산소와 실리콘을 반응시켜 실리콘 산화막을 형성하는 방법

 

습식산화

Pyro 수증기를 반응로 내부로 주입하여 수증기와 실리콘을 반응시켜 실리콘 산화막을 형성하는 방법

 

산화 및 확산 공정의 주요 모듈

 

산화 및 확산 공정 장비 구조

 

반응 Gas는 MFC를 통과하면서 지정된 양만큼 공급됨

Boat - 실리콘 웨이퍼를 탑재하는 장치

Torch - 수소와 산소를 반응시켜 수증기를 발생시키는 장치

MFC - 가스의 유량을 조절하는 장치

 

LP-CVD 공정의 주요 모듈

 

LP-CVD 반응로의 배기구

진공펌프 내부를 저압 상태로 유지함

 

압력조절장치(APC) - 펌프와 반응로 사이에 있는 것으로 압력을 조절함

 

Tube

• 진공을 유지하기 위한 Outer Tube
• 반응 Gas의 흐름을 구분하기 위한 Inner Tube

 

LP-CVD 공정 장비 구조

APC(Auto Pressure Controller)  - Tube내의 압력을 조절하는 장치

 

공정에 따른 APC의 종류

Butterfly방식, N2 Ballast방식

 

Inner Tube vs Outer Tube

Inner Tube - 반응 Gas의 흐름을 구분하기 위한 석영관 위가 open

Outer Tube - 반응로 내부의 진공을 유지하고 ,반응로 내부를 외부 환경과 격리시키기 위한 석영관

 

Furnace의 종류

산화로 형태에 따른 구분

웨이퍼가 각각 수평, 수직으로 탑재되어 있음

수평형은 단위면적당 차지하는 크기가 큼 수직형이 작아서 생산성 향상측면에서는 우세한 부분이 있다.