공부/반도체 제조 공정 장비 운영 (e-koreatech)
02. 산화 및 확산 공정 주요 모듈
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2021. 5. 15. 13:07
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산화 및 확산 공정 주요 모듈
산화공정의 종류
사용하는 산화제에 따라 나눌 수 있음
건식산화
산소를 반응로 내부로 주입하여 산소와 실리콘을 반응시켜 실리콘 산화막을 형성하는 방법
습식산화
Pyro 수증기를 반응로 내부로 주입하여 수증기와 실리콘을 반응시켜 실리콘 산화막을 형성하는 방법
산화 및 확산 공정의 주요 모듈
산화 및 확산 공정 장비 구조
반응 Gas는 MFC를 통과하면서 지정된 양만큼 공급됨
Boat - 실리콘 웨이퍼를 탑재하는 장치
Torch - 수소와 산소를 반응시켜 수증기를 발생시키는 장치
MFC - 가스의 유량을 조절하는 장치
LP-CVD 공정의 주요 모듈
LP-CVD 반응로의 배기구
진공펌프 내부를 저압 상태로 유지함
압력조절장치(APC) - 펌프와 반응로 사이에 있는 것으로 압력을 조절함
Tube
- 진공을 유지하기 위한 Outer Tube
- 반응 Gas의 흐름을 구분하기 위한 Inner Tube
LP-CVD 공정 장비 구조
APC(Auto Pressure Controller) - Tube내의 압력을 조절하는 장치
공정에 따른 APC의 종류
Butterfly방식, N2 Ballast방식
Inner Tube vs Outer Tube
Inner Tube - 반응 Gas의 흐름을 구분하기 위한 석영관 위가 open
Outer Tube - 반응로 내부의 진공을 유지하고 ,반응로 내부를 외부 환경과 격리시키기 위한 석영관
Furnace의 종류
산화로 형태에 따른 구분
웨이퍼가 각각 수평, 수직으로 탑재되어 있음
수평형은 단위면적당 차지하는 크기가 큼 수직형이 작아서 생산성 향상측면에서는 우세한 부분이 있다.
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